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oai:hiroshima-cu.repo.nii.ac.jp:00001524 2023-07-25T10:32:18Z 52:315:317

しきい値電圧ばらつきに対するハロー構造の影響 Effect of the Halo-Structure on MOSFET Threshold-Voltage Variation 寺田, 和夫 テラダ, カズオ 高橋, 和也 タカハシ, カズヤ 辻, 勝弘 ツジ, カツヒロ 角村, 貴昭 ツノムラ, タカアキ 西田, 彰男 ニシダ, アキオ TERADA, Kazuo TAKAHASHI, Kazuya TSUJI, Katsuhiro TSUNOMURA, Takaaki NISHIDA, Akio application/pdf conference paper 電子情報通信学会 2009-03-04 VoR application/pdf 電子情報通信学会総合大会講演論文集 2 2009年_エレクトロニクス 86 AN10471452 https://hiroshima-cu.repo.nii.ac.jp/record/1524/files/110007090330.pdf https://hiroshima-cu.repo.nii.ac.jp/records/1524 jpn 110007090330 CiNii Research http://ci.nii.ac.jp/naid/110007090330 copyright©2009 IEICE 本文データは学協会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである。